KB001300: 5973と新しい5975 GC MSDの両方を使っています。同じメソッド設定やサンプルでも、5975のサンプルピーク面積/高さが5973のものよりも小さいのはなぜですか？  

ATUNE.Uファイルを用いた較正の際には、較正サンプルを含むバルブが開き、高真空ポンプが較正サンプルを真空チャンバ内のイオン源に引きつけます。ここで較正サンプルはイオン化され、測定されます。この過程では、較正バルブの物理的位置が、較正サンプルの量や較正サンプルが真空チャンバに入る経路に影響を与えます。 5973 MSDでは、較正バルブは真空マニホールドの正面に位置していましたが、5975 MSDでは、ソース上部のマニホールドの上に位置しています。5975の場合、バルブの位置の違いにより、5973よりも多くの較正サンプルがイオン源チャンバに入り、その結果、チューニング結果の電子増倍管電圧（EMV）が低くなります。チューニング基準は許容範囲内に修正されますが、EMVはわずかに低くなります。 5975と5973のチューニング基準/ターゲットは、Autotune（ATUNE.U）では共通しています。 設定チューニング質量　69、219、502 チューニング限界 ターゲット存在量カウント　500000 ピーク幅　0.6 amu 最大リペラー電圧　35 放出電流の設定　34.6 (35) 最大イオン集束電圧　90 5975と5973で同じチューニング基準を使う場合、5975でサンプルを注入すると、結果に違いが生じます。これは、5975では5973よりも大きなリストリクタを較正サンプルが通過し、イオン源近くに導入されるためです。5975 MSDでも5973 MSDでも、チューニングプロセスで実行されるアルゴリズムと計算は同じです。 メソッドで同様のEMVオフセットを使用している場合、サンプル注入の際に反応が低くなります。同じ反応（ピーク高/面積）を得たい場合は、反応が5973と一致するように、電子増倍管電圧を調節する必要があります。これは、メソッドのEMVオフセットから調整できます。または、チューニングファイル内の存在量ターゲットを調節しても、同じ効果が得られます。